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国产电子束光刻技术实现突破 高端光刻装备破局

国产高端光刻装备“羲之”电子束光刻机的问世,标志着中国在半导体设备领域取得了重要突破。这款光刻机精度达到0.6nm,线宽...

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我国科学家突破技术瓶颈研发出飞秒级超快电子源,看清...

IT之家 7 月 4 日消息,因为光场诱导的自由电子加速,基于金属针尖的激光驱动电子源,通常受制于能量扩散和脉冲宽度之间...

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我国科学家研发出新型超快电子源 突破传统技术瓶颈

科研人员成功研发出一种基于碳纳米管的新型超快电子源,其发出的电子束能量异常集中且时间极短。这项成果突破了传统技术瓶颈,为...

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国产首台商用 200 千伏场发射透射电子显微镜发布...

IT之家 6 月 29 日消息,IT之家从“博众仪器”微信公众号获悉,6 月 28 日,苏州博众仪器科技有限公司(以下简...

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