AI算力需求正在改变半导体行业的增长方式。过去几十年,芯片性能提升主要依靠摩尔定律:晶体管做得更小、密度更高。但随着先进制程继续微缩,金属间距、功耗、漏电、散热、良率和成本都开始逼近边界,单纯依赖“更小节点”已不足以满足需求。

野村证券亚太科技分析师Donnie Teng团队在研报中提出,半导体行业的增长逻辑已从晶体管密度提升转向“3D晶体管、背面供电与多元新材料的组合创新”。这意味着AI不仅拉动GPU需求,还在推动芯片制造底层工艺的革新。

更直接的投资含义是,过去被视为配套环节的材料、耗材、基板、特种气体、化合物半导体,正成为决定先进芯片性能的关键因素。尤其从2027年开始,背面供电、晶圆键合NAND、玻璃核心基板、光子SOI等技术进入放量期,材料环节可能迎来一轮系统性重估。

台积电仍是这条链条里最重要的放大器。其先进产能扩张、SoIC混合键合、高NA EUV导入及本土化采购比例提升,都会把订单传导到设备、材料和零部件公司。与上一轮半导体周期不同,这一轮不是单一制程升级,而是结构、封装、材料同时切换。
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